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기술제품문의

장영훈 이사yhjang@dawonsys.com

황상규 부장sky@dawonsys.com

저온 플라즈마 배가스 동시 처리 기술

- Magnetic Pulse Compressor 를 이용하여 고전압 Pulse를 인가하면 전기장 내의 전자들이 배가스 내 입자들과 충돌하여 활성도가 높은 Radical을 발생시킴

- 발생된 Radical은 황산화물 / 질소산화물과 반응하여 질산과 황산을 만들고, 질산과 황산은 암모니아와 반응하여 질산암모늄, 황산암모늄을 생성함

- 결정화된 질산암모늄과 황산암모늄은 후단의 백필터에서 최종 제거 됨

저온 플라즈마 배가스 동시 처리 공정
저온 플라즈마 배가스 동시 시스템 구성도

저온 플라즈마를 이용한 배가스 처리기술에서 Magnetic Pulse Compressoe (MPC)는 핵심 장비이며, 고전압 압축 펄스를 발생하기 위하여 사용된다.

회로도
  • 다원시스 Magnetic Pulse Compressor 외형도

    주요 사양
    • Pulse Width
      500 ns
    • Output Current
      10 kApeak
    • Output Voltage
      200 kVpeak
    • Average Power
      120 kW
    • PRF
      300 Hz
Magnetic Pulse Compressor 적용실적

포스코 광양 소각로 (50,000Nm3/hr), 포스코 포항 2소결로 (605,000 Nm3/hr)